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上海測(cè)宇科學(xué)儀器科技有限公司
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薄膜分析
X射線衍射對(duì)于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價(jià)值。采用精密的晶格參數(shù)的測(cè)量方法，可以很準(zhǔn)確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數(shù)匹配或不匹配是一個(gè)重要因素如磁泡存儲(chǔ)器的磁性石榴石薄膜，LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產(chǎn)品。對(duì)于薄膜X射線衍射的另一個(gè)應(yīng)用是使用高溫衍射通過測(cè)定晶格參數(shù)隨溫度的變化來(lái)確定熱膨脹系數(shù)。
系統(tǒng)
-
搖擺曲線: SmartLab?, Ultima IV
-
倒易空間圖測(cè)量: SmartLab?, Ultima IV
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膜厚測(cè)量，粗糙度，密度: SmartLab?, Ultima IV
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反射測(cè)量: SmartLab?， Ultima IV
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In-plane晶體結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?, Ultima IV
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In-plane衍射: SmartLab?, Ultima IV
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相分析，擇優(yōu)取向，畸變，殘余應(yīng)力: SmartLab?, Ultima IV
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極圖，薄膜衍射: SmartLab?, Ultima IV
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混合晶體成分比例，晶格畸變: SmartLab?
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外延層厚: SmartLab?
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超晶格的周期性結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?
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實(shí)驗(yàn)室XRR: SmartLab?, Ultima IV
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高功率 θ/θ測(cè)角儀系統(tǒng): TTRAX III
X射線衍射對(duì)于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價(jià)值。采用精密的晶格參數(shù)的測(cè)量方法，可以很準(zhǔn)確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數(shù)匹配或不匹配是一個(gè)重要因素如磁泡存儲(chǔ)器的磁性石榴石薄膜，LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產(chǎn)品。對(duì)于薄膜X射線衍射的另一個(gè)應(yīng)用是使用高溫衍射通過測(cè)定晶格參數(shù)隨溫度的變化來(lái)確定熱膨脹系數(shù)。
系統(tǒng)
- 搖擺曲線: SmartLab?, Ultima IV
- 倒易空間圖測(cè)量: SmartLab?, Ultima IV
- 膜厚測(cè)量，粗糙度，密度: SmartLab?, Ultima IV
- 反射測(cè)量: SmartLab?， Ultima IV
- In-plane晶體結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?, Ultima IV
- In-plane衍射: SmartLab?, Ultima IV
- 相分析，擇優(yōu)取向，畸變，殘余應(yīng)力: SmartLab?, Ultima IV
- 極圖，薄膜衍射: SmartLab?, Ultima IV
- 混合晶體成分比例，晶格畸變: SmartLab?
- 外延層厚: SmartLab?
- 超晶格的周期性結(jié)構(gòu)評(píng)價(jià): SmartLab?
- 實(shí)驗(yàn)室XRR: SmartLab?, Ultima IV
- 高功率 θ/θ測(cè)角儀系統(tǒng): TTRAX III
